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[写真]東大、セシウム花粉による被曝量は無視できるほど小さいとの研究結果（2）

2014年6月26日 22:15

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2012年2月19日に実際に被験者が着用したマスクとマスクに付着した放射性セシウム源のイメージングプレート像との合成像と、その部分の拡大写真。各写真の右下の白線は50マイクロメートルの大きさを表す。（東京大学の発表資料より）

2012年2月19日に実際に被験者が着用したマスクとマスクに付着した放射性セシウム源のイメージングプレート像との合成像と、その部分の拡大写真。各写真の右下の白線は50マイクロメートルの大きさを表す。（東京大学の発表資料より）

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