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キヤノン 反落、露光装置最大手のASMLが「後工程」に参入と
2026年1月21日 13:17
記事提供元：フィスコ
*13:17JST キヤノン---反落、露光装置最大手のASMLが「後工程」に参入と
キヤノン＜7751＞は反落。露光装置で世界最大手のASMLが「後工程」に参入と報じられている。チップ同士をつなぐ層に配線を描くための装置であり、現在は同社がその分野をほぼ独占する状況となっている。後工程の重要性が高まる中、装置メーカーの競争が激しくなっている格好。同社は11年に後工程向けの露光装置に参入、露光装置販売拡大のけん引役となっており、前工程で圧倒的なASMLの参入は脅威ともみられている。《YY》
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