信越化学、台湾にフォトレジストの生産工場を建設　約130億円投資

　信越化学工業は9日、台湾にフォトレジスト関連製品の生産工場を新設すると発表した。現在、台湾当局に建設許可を申請しており、許可が取れ次第、建設工事に着手する。工期は1年程度、投資金額は約130億円を見込む。

　フォトレジストは、半導体デバイスの製造に欠かせない感光性の樹脂である。シリコンウエハーにレーザー光などの光を照射し、集積回路を焼き付ける露光工程で使われる。同社では、市場が拡大しているArFエキシマレーザー用のフォトレジストや、回路パターンの寸法精度を向上させる多層レジスト材料を開発している。

　フォトレジスト関連製品の需要は、半導体デバイスの生産量の増加や微細化の進展により、アジアとアメリカで伸びているという。信越化学は、需要地の一つである台湾で生産を行うことで、従来の直江津工場と併せフォトレジスト関連事業で2つの生産拠点を持つことでリスクの分散を狙う。