ギガフォトン、最新型ArFエキシマレーザーGT65Aを発表

最先端の液浸露光プロセスの微細化サポートと環境負荷低減を同時に実現、
2017年内の出荷を目指す

（栃木県小山市）- （ビジネスワイヤ） -- リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、www.gigaphoton.com）は、新製品である最先端の液浸露光（リソグラフィ）装置向けArFエキシマレーザー「GT65A」を発表しました。同製品は2017年内の出荷を目指します。

GT65Aは、ギガフォトンのArFプラットフォームの特徴である、優れたスペクトルコントロール技術をさらに進化させることにより、1X nm（ナノメートル）以下の微細化プロセスをサポートします。また環境への負荷低減技術を標準搭載しており、あらゆる運転条件下でのヘリウムフリー運転および同社のネオンガスリサイクル装置である「hTGM」対応を標準装備しています。

GT65Aのスペクトルコントロールについては、二つの最新技術を標準搭載しました。一つは、従来機種と比較してスペクトル性能の安定性を4倍高めた「eMPL Solid」です。eMPL Solidはスペクトル幅(E95)の安定性を、露光フィールドごとに±5fm（フェムトメートル）という高いレベルで実現し、CD均一性の向上に貢献します。もう一つは、スペクトル幅を450fmから200fmまでコントロールする「hMPL」です。hMPLはスペクトル幅をプロセスに従って最適化することにより、プロセスウィンドウの最大化に貢献します。

またGT65Aが標準装備している、ギガフォトンのEcoPhoton^TMプログラムに沿って開発されたヘリウムフリーおよびhTGM技術は、環境負荷低減だけでなく、ヘリウムガス、ネオンガスにおける将来の供給不足や価格に対するリスクを大幅に減らし、お客様のサステイナビリティ向上にも貢献します。

ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「当社の新製品GT65Aは、絶えず微細化に挑む半導体装置業界へギガフォトンが提示するソリューションの一つであり、創業以来変わることのない業界へのコミットメントと、露光機メーカーに対する貢献の証でもあります。私達は今後も露光性能の向上に向け、技術に投資し続けます。」

GT65Aを始めとするギガフォトンのArFエキシマレーザーについては、米国カリフォルニア州サンノゼで2月26日（米国時間）より3月2日まで開催される先端露光の国際シンポジウム(SPIE Advanced Lithography 2017)で発表予定です。
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography

ヘリウムフリーに関する過去のニュースリリースはこちら

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ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。





businesswire.comでソースバージョンを見る：http://www.businesswire.com/news/home/20170221005003/ja/

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TEL: 0285-37-6931
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