ギガフォトン、EUVパイロット光源にて集光ミラー反射率低下量-0.4% /Bplsを達成

ギガフォトン、EUVパイロット光源にて集光ミラー反射率低下量-0.4% /Bplsを達成

（栃木県小山市）- （ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社は、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源について、最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源^注）にて集光ミラー反射率低下量-0.4%/Bplsを達成し、ボトルネック解消へ大きく前進したと発表しました。

ギガフォトンは今夏、独自開発技術である磁場を使ったデブリ除去技術において、水素フローの最適化を行い、実集光ミラーを搭載したパイロット光源での寿命試験を実施し、集光ミラーの反射率低下量、-0.4%/Bplsという値を達成しました。この数値はミラー寿命3か月に相当し、4月に行った同試験（反射率低下量-10%/Bpls）に比べ大幅な進展があったといえます。

ギガフォトン代表取締役副社長の溝口計はこうコメントしています。「最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源で達成した今回の結果は、大きな技術ボトルネックが解消されEUV光源が市場導入に大きく近づいたことを示しています。我々は今後もEUV光源の開発を通じて、半導体産業の発展に貢献していきます。」

*このニュースは9/11-9/14　カリフォルニア州モントレーで開催されるSPIE Photomask Technology + with EUV Lithographyにて報告予定です。

*本件は、国立研究開発法人「新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）」の助成プログラムの成果を活用しています。

注）ギガフォトンがEUVリソグラフィ量産工場対応仕様にて設計した光源。別名称「高出力実証機」

ギガフォトンについて

2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術であるLPP EUVソリューションは、費用対効果と生産性に優れた量産向けEUVスキャナーの実現に向けて先導的役割を果たしています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。





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経営企画部
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TEL: 0285-37-6931
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プレスリリース情報提供元：ビジネスワイヤ