リソグラフィシステム市場、2021年から2026年まで4.8%のCAGRで成長見込み

株式会社グローバルインフォメーションは、市場調査レポート「リソグラフィシステム市場：世界の業界動向、シェア、規模、成長、機会、予測（2021～2026年）」（IMARC Services Private Limited）の販売を9月7日より開始いたしました。

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市場の概要
リソグラフィシステム市場は、2020年に88億米ドルの規模に達しました。 今後、2021年から2026年の間に市場は4.8%のCAGRで成長すると予想されています。
リソグラフィーは、油脂と水の不混和性を利用した印刷プロセスです。このプロセスの始まりは、1700年代後半にAlois Senefelder（アロイス・セネフェルダー）によって発明されたことにさかのぼります。それ以前は、芸術家が版画を制作するためにのみ使用されていましたが、時が経つにつれ、半導体リソグラフィーを含む幅広い技術へと発展しました。現在、リソグラフィシステムは、平面の大部分または薄膜のさまざまな部分を微細加工するために使用されています。これらのシステムは、広範囲の表面に最適な画質で印刷することができ、比較的低コストであることが利点です。そのため、適切な素材にアートワークやテキストを印刷したり、集積回路に利用される半導体パターンや結晶を作成したりする目的で、リソグラフィシステムの使用が増えています。

市場の成長要因及び制約要因
ここ数年、リソグラフィシステムの分野では、数多くの技術的進歩がありました。これにより、青色の波長から193ナノメートルの高解像度の波長まで、さまざまな波長に対応できるようになりました。
現在、リソグラフィシステムは、半導体産業において、特に集積回路（IC）を構成するいくつかの部品の寸法、位置、形状を確定するために普及しています。これらの回路は、通信機器、家電製品、センサーなどに使用されることが多くなり、その結果、リソグラフィシステムの需要が世界的に拡大しています。
メーカーは、機能ごとのコストを抑えた多種多様な超高精度の半導体フォトリソグラフィ装置を開発するために、研究開発活動に莫大な投資を行っています。このことは、市場の成長にプラスの影響を与えています。
しかし、最新のマイクロ回路の製造に使用されるEUVリソグラフィシステムの開発に関しては、メーカーが直面している技術的な課題があります。これは、世界のリソグラフィシステム市場の成長を阻害する要因となっています。

主要な市場区分
世界のリソグラフィシステム市場は、テクノロジー、アプリケーション、地域に基づいて分類されています。

テクノロジー別の市場構成
・ArFイマージョン
・KrF
・i線
・ArF ドライ
・EUV
現在のところ、ArFイマージョンは重要な寸法の均一性を向上させるため、最大の市場シェアを持ち、明らかに優位性を示しています。

アプリケーション別の市場構成
・ファウンドリー
・メモリー
・統合デバイス
この中で、リソグラフィシステムが使用されている最も一般的なアプリケーションはファウンドリーです。

地域別の市場区分
・アジア太平洋地域
・北アメリカ
・ヨーロッパ
・中近東・アフリカ
・ラテンアメリカ
地域別では、アジア太平洋地域が依然としてトップであり、世界シェアの大半を占めています。これは、アジア太平洋地域に多数の半導体ICメーカーが存在するためと考えられます。次いで、北米、欧州、中東・アフリカ、中南米と続きます。

市場の競合状況
世界のリソグラフィシステム市場で活動しているトッププレイヤーの一部を紹介します。
・ASMLホールディング
・キヤノン
・ニコン
・Nuflare Technology, Inc.
・Evグループ
・ヴィーコ・インスツルメンツ
・SUSSマイクロテック


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