アイコアがセミコン・ジャパン2021で当社の集積液体供給システム（IMS）の湿式流体供給アーキテクチャーを詳しく紹介

アイコアがセミコン・ジャパン2021で当社の集積液体供給システム（IMS）の湿式流体供給アーキテクチャーを詳しく紹介

（米カリフォルニア州フリーモント）-（ビジネスワイヤ） -- 半導体資本設備向けの重要流体供給サブシステム／コンポーネントの設計・エンジニアリング・製造のリーダー企業であるアイコア・ホールディングス（NASDAQ: ICHR）は本日、2021年12月16日（木）午前10時30分（日本標準時）に東京で開催されるセミコン・ジャパン2021において、日本での販売代理店である株式会社KITZ SCTと共同で、半導体のウェット処理装置における高生産性の薬液供給アプリケーション向けのアイコア集積液体供給システム（IMS）について、詳細を紹介すると発表しました。

半導体デバイスの製造では、ウェットエッチング、ウェットクリーニング、ウエハーの研磨・平坦化（CMP）、乾燥、電気化学的成膜（ECD）などの湿式化学的成膜などの工程で、薬液供給・分配装置が使用されます。半導体基板の処理では一般的に、必要に応じて正確な量の液体薬品を供給し、気泡をなくし、ウエハーの使用可能な部分を均一な厚さにするとともに、コストや環境への懸念から化学物質の廃棄を最小限に抑えることが求められます。このような結果を得るために、薬液供給システムは、さまざまな種類のアクティブコンポーネント（例えば、流量調整器、圧力変換器、流量測定センサー、圧力調整器、バルブなど）で構成されており、薬液供給システムの全体的なサイズは、プロセス装置のサイズに影響を与え、その結果としてウエハーの製造コストに影響を与えます。

現在、そして将来的にも、ウェットクリーニングシステムやフォトレジスト塗布／現像システムのメーカーは、総合設備効率（OEE）と所有コスト（CoO）の両方を改善することに傾注しています。こうした取り組みにより、業界では、1システム当たり最大24チャンバーのプロセスツールを製造し、一定の設置面積でより高い生産性を実現するとともに、高い処理効率を重視して薬液の消費量を削減することが促されています。チャンバー間のプロセスのばらつきを最小限に抑えるためのハードウエア標準化も一貫して重要です。

モジュール式流体供給アーキテクチャーの利点は十分に証明されており、設置面積の縮小、コンポーネントおよびコンポーネントインターフェースの標準化、モジュール式コンポーネントの現場での交換のしやすさなどがあります。アイコアは、半導体業界が従来型からモジュール式のガス供給システムに移行するにあたり、主導的な役割を果たし、長い間にわたり成功を収めてきた歴史を持っています。そして現在、その最優良事例を、主要なウェットツールアプリケーションで使用されているモジュール式アーキテクチャー薬液供給システムのIMSに応用しています。

アイコアの有力な知的財産ポートフォリオには、半導体デバイス処理用の薬液供給アプリケーションに使用されるモジュール式システムに関する当社の業績を基に最近米国で登録された2件の特許があります。これらの特許は、薬液供給システムのシールおよびシステム中心の発明に関する米国特許第11,158,521号と、流体供給システムおよびIMSアーキテクチャー中心の発明に関する米国特許第11,158,522号です。IMSの2件の新しい特許と出願中の特許は、湿式および乾式の半導体処理アプリケーションにおけるモジュール式供給システムの設計・製造におけるアイコアのリーダーシップを強化するものです。

「アイコアがIMS高コンポーネント密度アーキテクチャーで湿式薬液供給システムのパラダイムを転換」を、2021年12月16日（木）の日本時間午前10時30分からホール4の出展者セミナールームで開催されるセミコン・ジャパン2021出展者セミナーで発表します。

日本の代理店である株式会社KITZ SCTは、セミコン・ジャパン2021の展示ブースでアイコアのIMS製品を展示します。5511番ブースにお越しいただき、KITZ SCTのチームとお会いして、半導体製造用のウェットプロセスアプリケーションでアイコア集積液体供給システムが持つ利点についての詳細をご確認ください。

アイコアについて

アイコアは、主に半導体資本設備や、防衛・航空宇宙、医療などその他の業界向けに重要流体供給サブシステム／コンポーネントの設計・エンジニアリング・製造を手掛けるリーダー企業です。主な提供製品には、半導体デバイスの製造に使用されるプロセスツールの重要な要素であるガス・薬液供給サブシステム（総称して流体供給サブシステムとして知られる）があります。当社のガス供給サブシステムは、エッチングや蒸着などの半導体製造プロセスで使用される特殊ガスを正確な量で供給、モニタリング、制御します。当社の薬液供給サブシステムは、化学的機械的平坦化、電気めっき、洗浄などの半導体製造プロセスで使用される反応性液剤を正確に混合・吐出するものです。精密機械加工部品、溶接品、電子ビーム・レーザー溶接部品、精密真空／水素ろう付け、表面処理技術、その他の専有的製品も提供しています。カリフォルニア州フリーモントに本社を置いています。
https://ir.ichorsystems.com/

株式会社KITZ SCTについて

キッツエスシーティー株式会社は、ガスおよび薬液の両供給システムに使用されるUHPコンポーネントを製造する世界一流企業です。液体供給システム向けにUHPバルブ、継手、加熱型アイソレーションバルブ、真空ライン用ゲートバルブ、PFAバルブ、PFA溶着継手を提供しています。また、半導体、フラットパネルディスプレー、LED、太陽光発電の工場で使用される工具・設備機器など、幅広い製品ラインアップで配管・供給システムを取り揃えています。
https://kitz-sct.jp/

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連絡先
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Claire McAdams, IR & Strategic Initiatives 530-265-9899
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