IBMら、5nmプロセスルールの微小トランジスタを開発

あるAnonymous Coward 曰く、　IBMがGLOBALFOUNDRIESやSamsungと協力し、5nmプロセスで製造した半導体チップの試作に成功したと発表した（PC Watch、マイナビニュース）。

　NVIDIAからもムーアの法則は終わったという発言が出始めている状況だが、この技術によって従来比でトランジスタを4倍の密度でチップに実装することができる。

　ただし、この技術を使って超過密チップを実用化するにはあと10～15年はかかるとしている。

　5nmプロセスで製造されたチップは現行の10nmプロセスで製造されたチップと比べ同消費電力なら40％、同性能なら75％の省電力化が可能になるという。プロセスの微細化には、昨今では「FinFET」と呼ばれる3次元構造のトランジスタという技術が使われているが、今回IBMらの研究グループでは積層したシリコンナノシートを使用する技術を用い微細化に成功した。

　スラドのコメントを読む | テクノロジー | IBM

　関連ストーリー：
ムーアの法則は少なくともまだしばらくは破られない 2017年04月18日
限界を迎える平面型NANDフラッシュメモリの製造プロセス縮小 2015年08月11日
ムーアの法則は2020年で終了 2013年09月01日