米司法省、産業スパイ容疑で中国籍の元ハイテク企業社員らを起訴

あるAnonymous Coward 曰く、　米司法省は19日、中国籍の6人を半導体メーカー2社からソースコードやその他の機密情報を盗んだとして産業スパイの罪で起訴した（The New York Times、BBC、日経、産経、Slashdot）。

　うち2人は米国防総省の資金援助を受けて南カリフォルニア大学大学院で「圧電薄膜共振子」と呼ぶ通信向け素子を研究、2005年に博士課程を修了。その後、米アバゴ・テクノロジー、米スカイワークス・ソリューションズに入社。両社が持つモバイル機器に使用される圧電薄膜共振器（FBAR）技術を盗み出し、同技術を応用した素子を生産するベンチャー企業「ROFSマイクロシステムズ」を中国で設立したという。

　被告のうち1人は16日、中国からロサンゼルスに到着した後に逮捕されたが、他の5人は中国にいるとみられている。米国務省のラスキ報道部長は「非常に深刻に受け止めている」とコメントしている。

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