ギガフォトン、最先端のArF液浸リソグラフィ光源「GT66A」が本格稼働

- 半導体需要の急増に対応する最新技術で生産性を向上 -

（栃木県小山市）-（ビジネスワイヤ） -- 2021年10月26日、半導体リソグラフィ用光源メーカであるギガフォトン株式会社（本社：栃木県小山市代表取締役：浦中克己）は、最先端ArF液浸リソグラフィ光源「GT66A」が、世界の半導体メーカにて本格的に稼働していると発表しました。

昨今、デジタル機器やクラウド設備が世界規模で急速に増加し、これらに使われる半導体の需要も激増しています。さらに、企業におけるDXの浸透、カーボンニュートラル社会に向けたEVの増産、再生可能エネルギーへのシフトチェンジ等、社会インフラの中枢を半導体が担う中、その需要はさらに加速しています。特に自動運転やハイパフォーマンスサーバーのように、高速計算と低消費電力を併せ持つハイエンドデバイス需要の増加はこの状況に拍車をかけています。

GT66Aは、そのようなハイエンドデバイス用半導体が必要とする5nmノード、および次世代のノードの製造にも対応しているモデルとなっています。

またGT66Aは、スペックルコントラストを低減(30%)することで、レイアウトとレジスト露光のパターンがずれるEPEの低減をしました。それにより、壁面の微細パターンの凹凸サイズを表すLERや、凹凸で生じるパターン幅のバラつきを示すLWRを抑え、イールド（歩留まり）の向上が期待できます。加えて高耐久性部品の導入により、メンテナンスサイクルを30%延長したことで、装置のアベイラビリティが向上し、高度な生産性の実現も可能となっています。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「GT66Aは、最先端半導体の安定的で歩留まりのよい生産をゴールに、特に最先端のプロセスノードの生産性向上のため市場に投入されました。ギガフォトンは、全ての半導体工場の生産性最大化のため、今後も活動し続けます。」

ギガフォトンについて

ギガフォトンはリソグラフィ用DUV光源の開発と製造のリーディングカンパニーとして、設立当初から最先端技術を駆使した多くのソリューションを世界の半導体メーカへ提供しています。また、EUV光源の開発にも取り組んでいます。ギガフォトンは研究開発から製造・販売・保守サービスまで、豊富な知識を持った専門家集団として、常にユーザーの目線に立った業界最高水準のサポートを提供し続けていきます。

詳細はwww.gigaphoton.com　をご覧ください。



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