【話題株】フェローテックHDが「次世代パワー半導体」用SiC(炭化ケイ素)単結晶ウェーハの新事業に着手

■給電効率92%アップとNHK「サイエンスZERO」が伝えた注目素材

　フェローテックホールディングス(フェローテックHD)<6890>(JQS)は10月16日、同日開催の取締役会で、100%子会社の上海申和熱磁電子有限公司(以下、「FTS」)の新事業開始と新会社の設立などを決議と発表した。19日の株価は11時にかけて1061円(44円高)まで上げている。

■中国の研究所などと新会社、中国での量産体制構築が急務と

　SiC(炭化ケイ素)単結晶ウェーハに関する製造、販売事業を新たに開始すべく、中国科学院上海珪酸研究所、および政府系・民間系投資ファンド等との合弁により中国安徽省銅陵市に新会社を設立する。

　SiC(炭化ケイ素)は、GaN(窒化ガリウム)とともにNHKの「サイエンスZERO」10月16日夜11時30分放送分で、「次世代パワー半導体」用の注目材料として言及され、給電効率92%アップなどと紹介された。

　フェローテックHDの発表では、「現状、量産供給が可能な企業は欧米、日本等中国以外の一部企業に限られており」「米中摩擦の拡大や膨大な国内需要に対応すべく」、中国での「量産体制の構築が急務」とした。

　新会社の名称は「安徽微芯半導体材料有限公司」(仮)。本社・工場所在地は中国・安徽省铜陵市经济開発区内(暫定)。資本金は8.9億人民元(1人民元15.7円として約139.7億円)。設立は2020年10月中(予定)。工場などの生産設備・研究センターは20年11月着工、21年中の竣工・生産開始を予定する。(HC)(情報提供:日本インタビュ新聞社=Media-IR)

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