キヤノンが高値に迫る、世界初技術を使用した半導体製造装置を出荷、NY株式市場でも値上がり

■NIL(ナノインプリントリソグラフィ)技術

　キヤノン<7751>(東証プライム)は9月27日、再び上値を指向して始まり、取引開始後は4954円(59円高)をつけて約4週間前につけた2008年以来の高値5121円に向けて出直っている。26日付で、世界で初めて実用化したNIL技術を使用した半導体製造装置を米国テキサス州にある半導体コンソーシアム「Texas　Institute　for　Electronics」(以下、TIE)に同日出荷すると発表し、注目されている。NY株式市場でも値上がりし、買い安心感が広がったようだ。

　発表によると、NIL(ナノインプリントリソグラフィ)技術は、これまでの投影露光技術とは異なる方式でパターンを形成するもの。従来の投影露光装置は、ウエハー上に塗布されたレジスト(樹脂)に光を照射し回路を焼き付けるのに対し、NIL技術を使用した半導体製造装置は、ウエハー上のレジストに回路パターンを刻み込んだマスク(型)をハンコのように押し付けて回路パターンを形成する。光学系という介在物がないため、マスク上の微細な回路パターンを忠実にウエハー上に再現でき、低消費電力・低コストで既存の最先端ロジック半導体製造レベルの5ナノノードにあたる最小線幅14nmのパターン形成が可能という。(HC)(情報提供:日本インタビュ新聞社・株式投資情報編集部)

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